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X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)

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    深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售產品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。產品主要應用領域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規(guī)定的有害物質:鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質采礦(各種礦石品位檢測設備)、塑料(無鹵測試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質、土壤、環(huán)境保護、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗、質量檢驗、人體微量元素和化合物檢驗等等。銷售的儀器設備應用于元素分析,化合物測試,電鍍鍍層厚度檢測等。






能量色散X熒光光譜儀,ROHS ROHS2.0 REACH指令檢測儀|化合物分析|元素分析儀|土壤檢測儀|ROHS檢測儀|合金檢測儀|元素分析儀|礦石檢測儀|含鉛量檢測儀

分析含量范圍 50微米以內 價格區(qū)間 10萬-30萬
能量分辨率 125eV 行業(yè)專用類型 電子產品
儀器種類 臺式/落地式 應用領域 環(huán)保,化工,電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合
元素分析范圍 各種電鍍鍍層厚度 重復性 3%

X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)


X射線熒光光譜儀(EDXRF)測試電鍍鍍層厚度介紹

一、技術原理

  X射線熒光光譜儀(Energy Dispersive X-ray Fluorescence, EDXRF)是一種利用X射線激發(fā)樣品中原子內層電子躍遷,通過檢測特征X射線能量或波長實現元素定性和定量分析的無損檢測技術。在電鍍鍍層厚度測量中,其核心原理基于以下兩點:

  1. 熒光強度與元素含量關系
    當X射線照射樣品時,鍍層元素吸收能量后發(fā)射特征X射線,其強度與元素濃度呈線性關系。通過建立標準曲線,可推算鍍層厚度。

  2. 深度分辨能力
    X射線穿透深度有限,低能X射線(如Mo靶管)可檢測微米級鍍層,高能X射線(如Rh靶管)適用于厚層分析。

二、測試流程

  1. 樣品準備

    • 表面清潔:去除油污、氧化層(如丙酮超聲清洗)。

    • 形狀要求:平面或規(guī)則曲面。

    • 基材選擇:避免與鍍層元素發(fā)生嚴重干擾(如Ni基鍍層需校準Ni基底影響)。

  2. 儀器參數設置

    • X射線管:根據鍍層元素選擇靶材(如Cu鍍層用Cr靶,Au鍍層用Rh靶)。

    • 濾波片:優(yōu)化特定元素信號(如Ni鍍層用Al濾波片抑制Cu的Kβ線)。

    • 探測器:Si-PIN探測器適用于輕元素(如Zn),SDD探測器適用于重元素(如Au)。

  3. 測試方法

    • 單點法:快速測量局部厚度(如焊點鍍層)。

    • 掃描法:生成厚度分布圖(如PCB板鍍層均勻性檢測)。

    • 多層鍍層分析:通過不同能量區(qū)間的信號分離各層厚度(如Ni/Cu/Sn復合鍍層)。

三、技術優(yōu)勢


優(yōu)勢說明
無損檢測無需破壞樣品,適用于成品質量控制(如電子元件鍍層)。
多元素分析能力可同時檢測鍍層及基材元素(如Zn-Ni合金鍍層中Ni含量分析)。
高精度厚度測量精度可達±0.1μm(如PCB板化學鍍金層)。
快速檢測單點測量時間<1分鐘,適合生產線在線檢測。


四、應用場景

  1. 電子行業(yè)

    • PCB板鍍層厚度控制(如化學鍍鎳金層厚度檢測)。

    • 連接器端子鍍層均勻性評估。

  2. 汽車行業(yè)

    • 緊固件鍍鋅層厚度驗證(符合ISO 1461標準)。

    • 發(fā)動機零部件鍍鉻層耐腐蝕性評估。

  3. 珠寶行業(yè)

    • 貴金屬鍍層(如K金、鈀)厚度檢測,防止摻假。

    • 寶石鑲嵌金屬底座鍍層完整性檢查。


    • 詳細技術指標

    • 多鍍層分析,1~5層;

    • 測試精度:0.001 μm;

    • 元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);

    • 測量時間:10~30秒;

    • SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;

    • 探測器Be窗0.5mil(12.7μm);

    • 微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

    • 6個準直器及多個濾光片自動切換;

    • 高清CCD攝像頭(200萬像素),準確監(jiān)控位置;

    • 多變量非線性去卷積曲線擬合;

    • 高性能FP/MLSQ分析;

    • 軟件支持無標樣分析;

    • 寬大分析平臺和樣品腔;

    • 集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;

    • 采用多種光譜擬合分析處理技術;

    • 鍍層測厚分析可達到0.001μm。

    • 單層厚度范圍:

    • 金鍍層0-8um,

    • 鉻鍍層0-15um,

    • 其余一般為0-30um以內,

    • 可最小測量達0.001um。

    • 2.3、多層厚度范圍

    • Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

    • Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

    • Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

    • 2.4、鍍層層數為1-6層

    • 2.5、鍍層精度相對差值一般<5%。

    • 2.6、鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

    • 單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)

    • Ni層厚度(um)

      精度

      <1.0um

      <5%

      1.0-5.0um

      <3%

      5.0-10um

      <3%

      10-20um

      <3%

      >20.0um

      <3%







X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)




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